磁控溅射

规范用词磁控溅射

英文翻译magnetron sputtering

名词定义在二极溅射中增加一个平行于靶表面的封闭磁场,借助于靶表面上形成的正交电磁场,把二次电子束缚在靶表面特定区域来增强电离效率,增加离子密度和能量,从而实现高速率溅射的过程。

所属学科材料科学技术 > 材料科学技术基础 > 材料合成、制备与加工 > 薄膜制备技术

名词审定材料科学技术名词审定委员会

见载刊物材料科学技术名词》 科学出版社

公布时间2011年

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